2021年6月30日，CUMEC公司面向全球全新发布硅光130nm Cu工艺和氮化硅光电子工艺等三套PDK，为客户提供了更多和更高性能的流片服务。为促进广大硅光芯片设计工程师更加高效快捷的使用CUMEC公司硅基光电子平台进行芯片设计和流片服务，近日，CUMEC公司组织开展了硅基光电子工艺设计平台设计与流片培训，国内外硅光研发团队共计200余人参加此次培训。

上图：线上培训图

本次培训采用线上workshop培训的方式进行，培训课程共分为两部分：CUMEC硅光工艺技术及设计规则介绍和CUMEC PDK使用培训（安装、功能介绍及芯片设计演示）。培训中，我司研发人员详细介绍了CUMEC的工艺能力，包括180nm铝、130nm铜和氮化硅工艺，并对CUMEC的PDK内容，从PDK分发、下载到安装的全流程进行了说明，最后结合个别特定的设计范例详细演示了PDK软件的使用和操作方法。

本次培训取得良好成效，进一步加强了公司与客户之间的交流、合作，加深了各硅光研发团队对CUMEC公司硅基光电子工艺设计平台的了解，提升了广大硅光芯片设计工程师使用该平台进行芯片设计与流片服务的能力，获得了各硅光研发团队的充分肯定。